二硫化钼复合材料的发展历史

二硫化钼是在2008年合成的，它是一个被称为过渡金属二硫化物材料(TMDs)的大家族的成员。这个花哨的名字代表了它们的结构:一个过渡金属原子(即钼原子)和一对元素周期表16列的原子，包括硫和硒(这个元素家族以氧族元素而闻名)。令电子制造商惊讶的是，所有的TMD都是半导体。它们几乎和石墨烯一样薄(在二硫化钼中，两层硫原子夹着一层钼原子)，但它们还有其他优点。就二硫化钼而言，优势之一是电子在平板中的运行速度，即电子迁移率。二硫化钼的电子迁移率约为100cm2/vs(即每平方厘米每伏秒100个电子)，远低于晶体硅，但优于非晶硅等超薄半导体。科学家们正在研究这些材料，以使它们用于未来的电子产品，如柔性显示屏和其他柔性电子产品。

二硫化钼(MoS_2)及其复合材料因其特殊的性能而广泛应用于吸附、电催化析氢、晶体管、离子电池和超级电容器。

发展过程是指历史的发展，发展过程中间发生了什么，这些事情发生的原因，在历史的发展中起到了什么作用。发展从出生开始就是一个进步和变化的过程，是事物的不断更新。