蒸发法制备薄膜的发展历史

真空蒸发镀膜和真空溅射镀膜这两种真空物理镀膜工艺是目前为止能够制备光学薄膜的最重要的两种工艺。

它们的大规模应用是在1930出现油扩散泵-机械泵抽油系统之后。

在1935中，开发了通过真空蒸发沉积的单层减反射膜。

通常光学薄膜的制备条件要求高、精度高，光学薄膜的制备分为干法制备和湿法制备。

干法制备方法(包括真空镀膜:蒸镀、磁控溅射、离子镀等。)一般用于物理光学薄膜的制备。

湿法制备方法(包括涂布法、流延法、热塑性法等。)通常用于制备几何光学薄膜。