宁波力力电子有限公司的历史沿革。

1954中国科学院院士、贺亮合力科技成就奖获得者阙端林教授，开启了半导体材料的研究，是我国最早的学者之一。李教授，国家有突出贡献中青年专家，获国家发明二等奖，国家自然科学二等奖。与阙端林院士共同主持了数十项国家重点项目和研究课题，在国际上率先发明了真空充氮直拉硅单晶和氮气保护硅单晶技术。

自1970以来，李教授自力更生，利用自己的科研成果，迅速实现了科研成果的产业化。

1999年底，阙端林教授和李教授审时度势，抓住半导体产业向中国转移的有利时机，以其智慧和敏锐的洞察力续写半导体硅事业的新篇章。2000年，他们创办了宁波立立电子有限公司，是由浙江大学半导体学科相关的技术人员和管理人员创办的高科技企业。经过短短几年的努力，已发展成为国内最大的4-6英寸重掺杂硅单晶锭、抛光片、外延片生产基地。企业走上了振兴之路，企业管理水平有了很大提高。2004年是立立电子发展史上的一个重要时期。宁波海纳半导体有限公司被成功收购，更名为宁波立立电子半导体有限公司，产业链更加完整。2003年成功拉制出大规模集成电路用12英寸直拉硅单晶，完成国家863计划重大专项。自2004年被列为国家高技术产业化示范项目的8-12英寸硅片外延片项目实施以来，科技创新水平不断上升，新产品开发速度进一步加快，综合成本不断降低，竞争实力迅速增强。