谁发明了光刻机？

法国人尼波勒·尼普西。虽然mask aligner发明的比较早，但是并没有在各个行业使用。直到第二次世界大战，该技术才被应用于印刷电路板，所使用的材料与早期发明中使用的材料有很大不同。在塑料板上制作铜布线，使电路板大受欢迎，在短时间内成为许多电子设备领域的关键材料之一。

光刻机:光刻机又称掩模对准曝光机、曝光系统和光刻系统，是制造芯片的核心设备。它使用类似于照片印刷的技术，通过曝光将掩模上的精细图案印刷到硅片上。

光刻机按照操作的简单程度一般分为三种:手动、半自动和全自动。

a手动:指对准的调整方式，即通过手动调整旋钮改变其X轴、Y轴和thita角度来完成对准，对准精度可想而知低；

b半自动:是指通过电轴可以根据CCD进行定位和调准；

c自动:指从基板上传下载，曝光时长和周期由程序控制。自动光刻机主要满足工厂对处理能力的需求。