光刻机里面有芯片吗？那么哪个先出现，掩模对准器还是芯片？
金亨尼发明的“平面加工技术”已经成为现代芯片行业的标准工艺。受光刻技术的启发，海尼发明了用于晶体管制造的“平面加工技术”。这种工艺已经成为芯片制造的标准工艺。现有的工艺再复杂，也是在Henny发明的基础上衍生和扩展的。而“平面加工技术”主要分为四大流程:手工绘制晶体管设计图，有大有小，上面有很多晶体管，这一步就演变成了现在的芯片设计；拍摄设计，并将其缩小为一个微小的透明片，这就发展成了现在的面具；用一束强光穿过透明片，把图案上的图案投射到涂有化学感光材料的硅片上，这个过程就是光刻；用酸性物质刻蚀硅片上未曝光的区域，然后掺杂所需杂质，完成整个过程。
如你所见，在第三步中使用了掩模对准器。但刚开始由于晶体管分立器件结构简单，对光刻机的分辨率和光源(一开始是普通光，然后是紫外光和波长更短的激光)要求很低，光刻机基本都是半导体公司自己做的。提出摩尔定律的仙童半导体公司创始人之一、英特尔公司联合创始人戈登·摩尔为光刻机磨镜片，可见当时设备简单。需要明确的是，集成电路也就是芯片的发明，是德州仪器的杰克·基尔比和飞兆半导体公司的罗伯特·诺伊斯在1958年共同发明的(两者没有合作关系，是独立发明的，为集成电路的发明权打了多年的官司)。
杰克·基尔比(左)和罗伯特·诺伊斯(右)和他们的概念产品，但他们申请专利时只有1958。当时kilby做了一个极其简单的概念产品，Noyce的发明被现在的芯片行业采用，但还是一个草图。后来“平面加工技术”发明后，芯片才真正成为工业化产品，而不是实验室里的概念产品。所以从时间线上看，芯片出现的时间比光刻机晚。
目前最先进的光刻机——EUV光刻机，后来随着芯片越来越复杂，半导体公司很难自己制造，于是出现了专业的光刻机厂商。经过四五十年的竞争，光刻机市场已经重新洗牌。到目前为止，播放器主要是荷兰阿斯麦，日本尼康佳能，和中国的SMEE。