什么是pvd工艺？

1，PVD(物理气相沉积)是指通过物理过程将物质从源头转移到基底表面的过程。其作用是喷涂一些具有特殊性能(高强度、耐磨、散热、耐腐蚀等)的颗粒。)在性能较低的矩阵上，使矩阵具有更好的性能。？

2、PVD(可编程电压检测器)，即可编程电压监控器。在STM32ARM芯片中用于监控电源电压。当电源电压下降到给定阈值以下时，会产生中断，通知软件做应急处理。当电源电压恢复到给定阈值以上时，它还会产生一个中断，通知软件电源恢复。

扩展数据

物理气相沉积技术具有工艺简单、改善环境、无污染、耗材少、成膜均匀致密、与基底结合牢固等优点。该技术广泛应用于航空航天、电子、光学、机械、建筑、轻工、冶金、材料等领域，可用于制备具有耐磨、耐腐蚀、装饰、导电、绝缘、光导、压电、磁性、润滑、超导等特性的薄膜。

随着高新技术和新兴产业的发展，物理气相沉积技术出现了许多新的先进亮点，如多弧离子镀与磁控溅射兼容技术、大矩形长弧靶与溅射靶、非平衡磁控溅射靶、双靶技术、多弧沉积卷绕涂覆带状泡沫技术、带状纤维织物卷绕涂覆技术等。所用的涂布设备正朝着计算机自动化和大规模工业规模发展。

百度百科-PVD(物理学)

百度百科-PVD(计算机)