谈谈掩模对准器。
掩模光刻机利用类似的照相印刷技术，通过曝光将掩模上的精细图案印刷到硅片上。
光刻机的主要性能指标有:支持衬底的尺寸范围、分辨率、对准精度、曝光方式、光源波长、光强均匀性、生产效率等。
2018 165438+10月29日，国家重大科研装备研制项目“超分辨率光刻装备研制”通过验收。该光刻机由中国科学院光电技术研究所研制，光刻分辨率达到22 nm。结合双曝光技术，未来还可以用来制造10 nm级别的芯片。
光刻机的原理是什么？
和冲洗出来的照片有相似之处，但又不尽相同。
冲洗照片就是把需要冲洗的照片从底片冲洗到相纸上，或者把原来底片上的图像放大到相纸上。
光刻机缩小了大底片，也就是把集成电路图缩小成了晶片相纸。
这与冲洗和打印放大机的结果正好相反。
为什么原理上不难的机器门槛很高？难点在于它的准确性。所谓量变，产生了质变。
如果我们画电路图，画在A4大小的纸上，一点也不难，很多人都能做到。
这个话题扯得有点远，然后回到掩模对准器。
在A4大小的纸上画画相对容易。但是在邮票上画电路要困难得多。让我们想象一下，在一粒米或一粒沙子上画电路更难。
不仅如此，如果你想把这块沙子放在一辆行驶中的赛车上，让你在运动中追上其他赛车，在挡风玻璃的沙子上画电路图几乎是不可能的。
虽然都有一个名字，叫画电路图，但难度因环境、介质、大小而异。
所以光刻机也分低端和高端。10 nm以下的属于高端光刻机。
笔的粗细与绘图上呈现的内容量不同。笔尖越细，能画的内容越多，难度越大，高端越高。同样，还有沙子的大小。沙子越小，笔尖越细，画的内容越多，难度越大。
目前光刻机最先进的技术是5纳米。5纳米大约是50个原子宽。
原子的实际大小大约是黄色光波的5000到2000倍。在这种极端的精准下，很多原本可以忽略的细节，都变成了障碍和困难。
比如赛车时对震动极其敏感，比如关门，这可能是灾难性的。所以必须搭配极其精准的减震系统。
喜欢摄影的朋友都知道，在摄影的过程中，很重要的一个参数就是曝光。冲印照片也有曝光问题。曝光量和时间长短会影响成像效果。
光源，它是用来画画的。它必须频率稳定，能量均匀，并行度高。任何不准确的曝光都会严重影响成像质量。
所以运动状态下的控制精度必须是纳米，稍有偏差，成像就会出错。
掩模对准器比我们想象的要复杂得多。可以说，光刻机几乎是人类历史上最精密的机械设备。
有人说，芯片的生产靠花钱。钱肯定是要的，但也有环境问题和以上要素。
科学永远不可能是假的。